Filamento Sunlu PLA+ 2.0 gris 1.75mm

El PLA+ 2.0 de SUNLU ofrece de 2 a 3 veces la dureza y resistencia del PLA estándar.
Con una extrusión más suave y un menor riesgo de obstrucción, ideal para la impresión de modelos de alta calidad.

Características principales:
Impresión ultrarrápida (50–600 mm/s) gracias a su flujo de fusión optimizado.
Hasta 10 veces más resistente al impacto que el PLA convencional.
Tolerancia dimensional de ±0,02 mm para evitar deformaciones (warping).
Bobinado ultraordenado que previene nudos y fallos de alimentación.
Carrete reutilizable compatible con recargas (refills) y sistemas multimaterial.
Empacado hermético al vacío con desecante integrado contra la humedad.

Especificaciones:
Color gris - grey / código Hex #75787B
Resistencia a la tracción (MPa): 46±5
Densidad (g/cm³): 1,21
Temp.de boquilla y velocidad: 205-215 °C / 50-100 mm/s | 215-245 °C / 100-200 mm/s
Resistencia a la flexión (MPa): 83±5
Índice de fluidez (g/10 min): 8,3±2
Temperatura de la base: 50-60 °C
Contracción (%): 0,1-0,3
Distancia de retracción: 0,8-1,2 mm
Alargamiento a la rotura (%): 10±2,5
Velocidad de retracción: 30-40 mm/s